| Название статьи | Авторы | Выпуск | Стр. |
| Электронно-лучевая литография с использованием SiO2 в качестве чувствительного слоя | Д. Зубов, С. Соколов, Е. Еганова, В. Яковлев | 2 (2025) | 129-140 |
Поиск
Устарело